Industriële ovens Hwf160-10nh Vacuüm Muffleoven uit Chitherm Ceramic Sintering met effectieve kamer afmetingen

Deze oven is ontworpen voor het soldeerproces van metalen onderdelen en HTCC-pakketten, met aanvullende toepassingen zoals decarburatie, uitgloeien, afschrikken, verschroeien, harden en thermische ontbindingsprocessen.

• Nominale temperatuur: 900°C
• Maximumtemperatuur: 1100°C
• Atmosfeermogelijkheden: N2, H2 met bevochtiging
• Zuurstofgehalte meting: O2-gehalte-analysator
• Muffelmateriaal: SUS 310S
• Muffelafmetingen: φ750mm×900mm (d×D)
• Effectieve kamer afmetingen: 500×500×650mm (B×H×D)
• Laadmethode: Handmatig via horizontale geleidingsplanken
• Verwarmingsmethode: Weerstandsdraad voorgebouwde verwarmingsplaat
• Koelmethode: Luchtkoeling met ventilator
• Temperatuurregelingsstabiliteit: ±1°C (controller met P.I.D.-functie)
• Profielstappen: Standaard 20 stappen
• Temperatuuruniformiteit: ±5°C
• Thermocouple: Type K
• Temperatuurregelpunten: 3
• Temperatuurmeetpunten: 1
• Maximaal verwarmingsvermogen: 40kW
• Typisch isolatievermogen: ≤25kW
• Verwarmingssnelheid: ≤5°C/min
• Ovenoppervlaktetemperatuur: ≤40°C
• Maximale vacuümwaarde: ≤10Pa
• Uitlaatsysteem: 1 uitlaatpoort aan de bovenkant met H2-ontsteker
• Alarmsysteem: Hoorbare en visuele alarmen voor overtemperatuur, thermocouple-fout, lage lucht-/waterdruk, onvoldoende vacuümniveau
• Gewicht: 1500kg
• Uiterlijk Kleur: Lichtgrijs
• Externe afmetingen: 1650mm×1950mm×2000mm (B×H×D)

• Omgevingscondities: Temperatuur 0~40°C, vochtigheid ≤80%RH, geen corrosief gas, geen sterke luchtstroomstoring
• N2-condities: 99,999% zuiverheid, werkdruk: 0,2-0,4 MPa, Max gasverbruik 2-6 m³/u
• H2-condities: Werkdruk: 0,2-0,4 MPa, Max gasverbruik 1-3 m³/u
• Persluchtconditie: Droog, schoon, olievrij, werkdruk: 0,4-0,8 MPa
• Watercondities: Schoon, geen corrosief water, werkdruk 0,1-0,3 MPa, 3-9 l/min
• Ventilatiesysteem: Niet-contact toegang tot gebruikerspompsysteem, pompcapaciteit >15 m³/u
• Grondvereisten: Horizontaal, geen duidelijke trillingen, draagvermogen >500 kg/m²
• Stroomconditie: Capaciteit >55 kVA, 3-fasen 5-draden, spanning 220/380V, frequentie 50Hz
• Installatieplaats: 3000mm×2500mm×3000mm (D×B×H), installatieoppervlak >7,5 m²

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. is gespecialiseerd in het onderzoek, de ontwikkeling, het ontwerp, de productie, de verkoop, het onderhoud en de service van industriële ovens voor hoge, gemiddelde en lage temperaturen en laboratoriumovens. Ons productassortiment omvat klokovens, doosovens, heteluchtovens, vacuümovens, buisovens, gaasbandovens, wagenbodemovens, rotatieovens, rollenbaanovens en duwovens.

Deze oplossingen worden veelvuldig toegepast in geavanceerde keramiek, elektronische componenten, dikke-filmcircuits, additieve fabricage, poedermetallurgie, nieuwe energie en fotovoltaïsche systemen. Onze ovens zijn geschikt voor thermische behandelingsprocessen van materialen, waaronder ITO-targets, MLCC/HTCC/LTCC, keramische filters, magnetische materialen, CIM/MIM en lithium-accu kathodes en anodes, evenals diverse andere nieuwe materiaalprocessen zoals voorsinteren, ontwaxen, ontvetten, sinteren, drogen, warmtebehandeling, uitharden en keramiseren.